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氧化爐,擴散爐,LPCVD設備廠家LOGO

產品中心

主要產品有：氧化爐，擴散爐，LPCVD，HVPE，特氣柜、尾氣處理等半導體氣體處理配套，石墨烯，氫氣爐，熱處理爐等真空熱處理設備等。

  • 半導體工藝設備

    半導體工藝設備

    模塊化、自動化可擴展、高可靠

    01
  • 特氣&廢氣處理

    特氣&廢氣處理

    處理半導體工藝過程中產生的廢氣,如氯氣、氟化物、氯化物等

    02
  • 真空/氣氛爐系列

    真空/氣氛爐系列

    適用于高性能釤鈷、釹鐵硼等磁性材料的燒結、退火、擴散滲鏑、滲鋱等工藝

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  • 工廠自動化及升級改造

    工廠自動化及升級改造

    設備及工廠生產自動化工業4.0

    04

青島華旗科技有限公司

團結 拼搏 創新 求索

青島華旗科技有限公司為專業的半導體工藝設備及先進材料專用設備研發、制造廠家。我公司制造的半導體工藝設備覆蓋一、二、三、四代半導體材料-硅、砷化鎵、氮化鎵等，高性能磁性材料真空設備(釤鈷、釹鐵硼等)同時承擔了國家部分863項目(如半導體白光照明GaN生長的HVPE設備等)。

  • 2009年
    成立時間
    J
  • 8000㎡
    凈化廠房
    C
  • 30年
    研發經驗
    M
  • 30+
    專利技術
    E
  • 1000+
    用戶數量
    E

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